PLD Pulsed Laser Deposition System
PLD Pulsed Laser Deposition System 및 Thermal Evaporation System – PLD-T는
펄스 레이저 증착(Pulsed Laser Deposition)과 열 증발(Thermal Evaporation) 기술을 함께 사용할 수 있는
고진공 박막 증착 시스템으로, 최소한의 설정으로 다양한 재료 및 결정 구조를 기판 위에 증착할 수 있도록 설계됨.
Pulsed Laser Deposition 기술은 비열적 어블레이션(non-thermal ablation) 방식으로 타겟 재료의 화학적 조성을 유지하며 증착 가능.
다음과 같은 재료 증착에 사용 가능.
⊙ 질화물 (Nitrides)
⊙ 산화물 (Oxides)
⊙ 초격자 구조 (Superlattices)
⊙ 폴리머 (Polymers)
⊙ 복합재 (Composites)
응용분야
⊙ Pulsed Laser Deposition (PLD) : 산화물, 질화물, 폴리머 및 복합재와 같은 복잡한 재료의 조성 유지하며
정밀한 증착이 가능한 Pulsed Laser
⊙ Crystalline Thin Films : 반도체 및 광전자 응용을 위한 초격자 구조 및 고급 결정 박막 증착.
⊙ Thermal Evaporation : Boat, Basket 또는 Coil 증발 소스를 이용한 금속 및 유전체 박막 증착.
⊙ SEM / TEM Sample Preparation : 비전도성 시편 및 서포트 그리드를 위한 고품질 코팅 형성.
⊙ Spectroscopic and Structural Studies : EDS/WDS, EBSD 및 광학 특성 분석을 위한 균일한 박막 형성.
⊙ Thin Film Research & Development : 마이크로전자, 나노기술, 초전도체 및 태양전지 연구에 활용.
⊙ Plasma Cleaning & Substrate Preparation : 오염 없는 표면을 확보하여 정확하고 재현성 있는
박막 성장을 지원.
⊙ Academic and Research Laboratories : 교육, 고급 실습 및 다양한 연구 프로젝트를 위한 연구용 플랫폼.
Features
⊙ Target Manipulator : 정밀한 위치 제어를 위한 회전 속도 조절 기능
⊙ Thermal Sources : 기능 확장을 위한 특수 피드스루가 적용된 3개의 Thermal Source
⊙ Real-time Thickness Measurement : Quartz Crystal Monitoring System을 이용한 실시간 두께 측정
⊙ 정밀도 : 1 nm
⊙ User-Friendly Interface : 코팅 공정 제어 및 데이터 입력을 위한 직관적인 터치스크린 인터페이스
⊙ Plasma Cleaning : 기판 준비를 위한 플라즈마 클리닝 기능
⊙ Upgradable Software : 네트워크를 통한 소프트웨어 업데이트 지원
⊙ Sample Handling : Rotary Sample Holder 및 Electronic Shutter 장착
⊙ Motorized Boat Selection : Boat 소재 선택을 위한 Motorized 제어 기능
⊙ Substrate Heating : 최대 500 °C 기판 히터
⊙ Warranty and Insurance : 시스템 2년 보증 / 제품 책임 보험 적용
Thermal Evaporation Sources
⊙ PLD Pulsed Laser Deposition System은 3개의 독립적인 Thermal Evaporation Source 사용 가능.
⊙ 사용 가능한 Source 타입
- Boat / Basket / Coil
⊙ 각 Source는 재료 간 오염 전달을 최소화하도록 설계됨.
⊙ Source Holder 길이 고객 요구에 맞게 5 ~ 10 cm 범위 조절 가능
Target Manipulator
⊙ PLD 시스템은 Multi-target Manipulator 장착.
- Target 장착 수 : 3개
- Target 직경 : 2 cm
- 표준 규격 Target 사용
⊙ 모든 Target Manipulator는 Motorized 방식으로 작동하며
증착 과정에서 정밀한 회전 및 위치 제어 가능.
Touch Screen Control System
⊙ PLD-T Pulsed Laser Deposition System은 7인치 컬러 터치스크린 적용.
⊙ 터치스크린을 통해 다음 기능 사용 가능.
- 공정 제어
- 공정 모니터링
- 데이터 입력
⊙ 표시 정보
- 진공 상태
- 장비 상태
- 증착 정보
⊙ 데이터는 숫자 및 그래프 형태로 표시됨.
⊙ 또한 최근 300개의 코팅 데이터 저장 및 조회 가능.
Specifications
⊙ Vacuum System - High Vacuum Turbomolecular Pump - Diaphragm Backing Pump ⊙ Vacuum Measurement : Full Range Vacuum Gauge ⊙ Real-time Thickness Measurement : Quartz Crystal Monitoring System ⊙ 정밀도 : 1 nm ⊙ Power Supply : 5 kW High Current Power Supply ⊙ Gas Flow Control : Precision Mass Flow Controller (MFC) ⊙ Data Recording and Analysis : 코팅 파라미터 그래프 기록 및 분석 가능 ⊙ Data Transfer : USB 포트를 통한 증착 데이터 및 그래프 전송
Utilities ⊙ Power : 220-240 V ⊙ Frequency : 50 / 60 Hz ⊙ Current : 16 A
Dimensions
⊙ 50 cm (H) × 60 cm (W) × 47 cm (D)
⊙ Weight : Shipping Weight : 70 kg
Options and Accessories
⊙ Thermal Evaporation Sources : Boat / Basket / Coil 타입 선택 가능
⊙ Substrate Heater : 최대 500 °C
⊙ Evaporation Source Materials : 다양한 재료와 호환되는 Thermal Evaporation Source
⊙ Quartz Crystal Sensors : 고정밀 두께 모니터링을 위한 Quartz Crystal Sensor
⊙ Sealing Gaskets : 공정 중 기밀 상태 유지를 위한 Sealing Gasket
