* AccuSputter AW4450은 Perkin-Elmer 4450 기반 sputter deposition 시스템으로
생산 환경에서 검증된 장비 구조를 기반으로 구성된 장비.
* Allwin21 Corp.의 PC 기반 통합 공정 제어 시스템과
Feed-thru Assembly Table Rotate / Lift Subsystem을 적용하여 재구성된 시스템.
* 연구개발 및 생산 공정 환경에서 사용 가능하며 다양한 sputter 공정 지원
응용
● 반도체 공정 ● 박막증착 ● 금속박막 ● PVD (Physical Vapor Deposition) ● Research & Development ● Production Environment
Key Features
● 생산 환경에서 검증된 sputter 기술
● AW-4450 시스템 제어
● Feed-thru Assembly Table Rotate / Lift Subsystem
● 모터, 액추에이터, 릴레이, 솔레노이드용 DC 24V 구동
● 8" Delta Cathode, 2~6" 옵션
● Indexing 기능을 포함한 Full pallet rotation 제어
● 높은 균일도와 수율
● DC / RF / Pulse DC sputter 옵션
● Magnetron 및 Diode sputter 옵션
● RF Etch 및 Bias 기능
● Ultra clean vacuum system
● Load lock operation
● UHV 설계
● 다양한 기판 크기 지원
● Co-sputtering 옵션
● Reactive sputtering 옵션
Sputter Materials
Al+W / Cr / Cr+Cu / Cr/Si / Cr/SiO / Cr/Au Ni / Ni/Cr / Ni+Ni/Cr / Ni/Fe Mo / MoSi2 / Mo2Si5 / Mo5Si3 Ta / TaC / TaSi2 Si / SiC / SiO2 / Si3N4 Ti/W / Ti/W+Au / Ti/W+Pt Au / Ag / Pt / Zr / Zn / ZnO2
Basic Configuration
■ Main Frame
■ 28" 직경 SST 챔버 상부 플레이트 (포트 및 Cathode 포함)
Configuration |
I |
II |
Cathode Shape |
Circle |
Delta |
Cathode Size |
8 inch |
Delta |
Cathode Quantity |
1 ~ 4 |
1 ~ 3 |
■ Sputter Power Supply
Configuration |
I |
II |
III |
DC Power |
5KW |
10KW |
|
RF Power |
1KW |
2KW |
3KW |
Pulse DC Power |
5KW |
10KW |
|
■ Process Chamber
● 8" 직경 × 12" 높이 스테인리스 스틸 실린더
● 6" CF flange viewport 및 load lock port
● 28" 직경 스테인리스 스틸 베이스 플레이트
● 1-1/2" air-operated roughing isolation valve
● air-operated gas inlet valve
● air-operated vent valve
● 1-1/2" leak check port (blanked-off)
● 탈착식 deposition shields
● Feed-thru Assembly Table Rotate / Lift Subsystem 적용
● 23" 직경 3-position water-cooled annular substrate table
with Feed-thru assembly Table Rotate/Lift Subsystem
● Full circle shutter 및 vane shutter
● Chain drive pallet carrier transport
● Heavy duty electric hoist
■ Load Lock System ● 30" × 28" × 8" 스테인리스 스틸 load lock chamber (알루미늄 커버) ● Chain drive pallet carrier transport ● 2" air-operated roughing isolation valve ● air-operated vent valve ● 23" 직경 몰리브덴 annular substrate pallet ● pallet 상하 이동용 elevator
■ Vacuum System for process Chamber ● 공기 기준 1000 L/s pumping speed의 2단 Cryo pump ● Chevron 포함 ● Water-cooled compressor 및 라인 포함 ● Automatic regeneration controller 및 plumbing kit 포함 ● 7-1/2" O.D. (6" ASA) 알루미늄 air-operated gate valve ● Air-operated venetian blind throttling valve ● 공정 챔버 및 load lock용 36.7 CFM mechanical pump 또는 dry pump(옵션)
■ 1 Gas Line with MFC ● Ar, 200 SCCM ● Customized
■ New Controller : AW-4450 System PC Control
■ New Power Distribution Box : AC380V /208V/ 3Phase
■ Additional Gas Line ● N2 ● O2 ● Customized
Software Key Features ● Maintenance / Manual / Semi Automatic / Fully Automatic 모드 지원 ● 모든 서브시스템 자동 캘리브레이션 ● 서브어셈블리 수준의 문제 진단 기능 ● 프로그램 기반 종합 캘리브레이션 및 진단 기능 ● 완전 자동 웨이퍼 공정 처리를 위한 레시피 생성 ● 부적절한 레시피 및 공정 데이터 입력 자동 거부 ● 다단계 패스워드 보호 ● 다수의 레시피 및 시스템 기능 저장 ● 실시간 공정 그래픽, 데이터 수집 표시 및 분석 ● 공정 데이터 및 레시피 하드디스크 자동 저장 ● TC vacuum gauge 간편 캘리브레이션 ● Positioning Deposition (옵션) ● GEM / SECS II (옵션)
Control System
■ Controller
● AW-4450 System PC Control Power Distribution
● AC 380V / 208V / 3 Phase
■ Software Features
● Maintenance / Manual / Semi Automatic / Fully Automatic 모드 지원
● 모든 서브시스템 자동 캘리브레이션
● 서브어셈블리 수준 문제 진단 기능
● 공정 레시피 생성 및 관리
● 실시간 공정 그래픽 및 데이터 표시
● 공정 데이터 자동 저장
● TC vacuum gauge 간편 캘리브레이션
● GEM / SECS II 옵션
Option
◆ GEM/SECS II 함수 (소프트웨어)
◆ MFC가 있는 더 많은 가스 라인
① N2 ② O2 ③ Customized
◆ 버저가 있는 램프 타워 알람.
◆ 프로세스 챔버 및 로드 락을 위한 기계식 펌프 또는 건식 펌프.
◆ 프로세스 챔버용 독립 기계식 펌프 또는 건식 펌프.
◆ 냉각판과 테이블용 냉각기.
◆ 로드 락용 터보 펌프.
◆ 로드락 램프 난방 기능, 최대 200°C
◆ 챔버 램프 가열 기능, 최대 300°C(음극 포트 하나 사용 SST 챔버 상판에서).
◆ 플라즈마 식각 기능(스퍼터 전)
◆ 바이어스 기능
◆ 공동 스퍼터 기능
◆ 반응성 스퍼터 기능
◆ DC 전원 공급을 위한 AC 380V ~ 208V 변압기(필요한 경우)
※ 모든 사양 및 정보는 사전 통보 없이 변경될 수 있음.
