​개 요
메가소닉 세척은 메가 헤르츠 규모의 고주파 초음파 에너지를 사용하여 기판과 화학 반응에서 미크론 이하의 입자를 제거합니다. 저주파 초음파 캐비테이션과 비교했을 때, 메가소닉 캐비테이션 효과는 더 작은 입자를 제거하고 기판의 손상을 줄일 수 있습니다.

배치형 메가소닉 플레이트는 웨이퍼용 배치형 메가소닉 세척 시스템을 구축하기 위해 공정 탱크에 쉽게 조립할 수 있습니다. 특수 커플링 기술을 사용하여 압전 변환기는 석영 또는 사파이어 진동 층과 정확하게 일치하여 공정 탱크로 균일한 음장을 효율적으로 방출합니다. 

Siansonic 배치형 메가소닉 세척 시스템의 장점:

• 메가소닉 진동판은 세척 탱크 바닥에 직접 설치하여 2차 현상을 구현할 수 있습니다.

• 메가소닉 방출 음장이 균일하게 분포되어 세척 균일성이 향상됩니다.

• 매우 낮은 초음파 캐비테이션 효과, 장치 표면 손상 없음

• 고출력 메가소닉 변환기, 진동판 표면음 강도는 5w/cm2 이상에 도달할 수 있습니다.

• 석영 또는 사파이어 커플링 기술로 불순물이 장치에서 떨어질 위험이 없습니다.

• 비금속 고내식성 소재로 제작 가능하며 각종 산-염기 및 유기용매에 적합합니다.

• 독특한 트랜스듀서 본딩 기술로 더 높은 안정성과 내구성을 제공합니다.

• 3세대 반도체 기술을 이용한 메가소닉 발전기, 디지털 고주파, 고출력 구동을 완벽히 구현

​옵 션

• 플레이트 소재 : 316L 스테인리스 스틸, 석영, 사파이어

• 플레이트 크기: 사용자 정의 가능

• 사용자 정의 가능한 세척 탱크

응 용 

• 웨이퍼 세척

• 마스크 세척

• CMP(화학적 기계적 연마)

• 개발

• 에칭

• 포토레지스트 스트리핑

• Lift-off

• 렌즈 세척

• 디스플레이 화면 및 기타 마이크로 전자 산업의 정밀 세척

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