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반도체·LCD 연구장비
이온스퍼터코터(Ion Sputter Coater) G10

** 이온 스퍼터 코터 (Ion Sputter Coater) G20 **

                   

Ion Sputter Coater는 전도성이 없는 시료(Sample) 및 전도성이 약한 시료의 표면에 
플라즈마를 생성하여 금속박막을 형성시키는 장비로 
전자현미경 분석시 필수적으로 거쳐야 하는 전처리 장비. 

Target Material 은 골드(Au)를 주로 사용하며 시료 표면에 설정된 두께로 증착(도금)가능
MINI SEM, Normal SEM에 적합
 

• Ion Current 38mA (Fiexed)

• Target Material Au (Gold)

• Chamber Size (D140mm(D) x 70mm(H)

• Sample Stage (D50mm(D) x 25mm(H)

• Target Size (D50mm(D)

• Sputter Time Low(20sec)z MIDIUI、,l(40sec), High(60sec)

• Vacuum Pump 30L/min, Oil Rotary Pump

• Dimension 380(W)x240(D)x235(H)mm, 10kg

• Power 220VAC ±10%, 50/60HZ

• Oil Rotary pump (30L/min)

     Dimension : 155(W)x300(D)xl60(H), 9kg 

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