** 탁상형 ALD 장비(원자층 증착장비 ) SAL1000 **

    Desk Top Atomic Layer Deposition Eqipment

* 1원자 층마다 정밀한 증착제어를 실현

* 균일한 단차피복성이 뛰어난 연구개발용 탁상소형원자층증착장비

* 본체와 제어전원을 일체화하여, 탁상에서 자유롭게 이동할 수 있으며, 경량의 소형장비

* 4인치웨이퍼사이즈까지 성막가능.

* 각 부분에 안전대책마련

* 이상적인 Precursor  도입과  진공배기의 류체제어구조에 의하여 성막레이트와 막후분포의 향상 실현

* 기존의 ALD장비에는 없었던 기판홀더자동회전기구를 옵션으로 구비

   (제조사 성막테스트 가능)

- 다양성 -

* 프리커서는 표준사양으로 2계통

* 프리커서 실린더를 200℃까지 가열가능한 옵션 선택가능

* 기판홀더 자동회전기구를 옵션선택가능

* 비교적 저렴한 가열식배기가스처리장비를 옵션으로 선택가능

- 성능 -

* 기판표면에 1원자층마다 균일하게 핀홀 프리의 레이어성막가능

* 단차피복성이 뛰어나므로, 요철의 표면형상 및 3차원형상의 성막에 적합

* Aspect Ratio(편평비)가 높거나 다공성인 피성막물에, CVD나 PVD보다 피막성능이 뛰어난 성막가능

- 편리한 사용 -

* 터치패널로 성막프로세스의 레시피설정 및  각 구동기기의 동작확인

* 스타트스위치로 자동성막하고, 성막완료후에 자동 N2 Vent(분출)

* 개폐해치에 붙여진 창으로 기판상태확인가능

- 안전성 -

* 각종 인타로크로 인하여, 높은 안전성의 장비

* 소프트로즈기구부착 윗면해치로 인하여 기판의 출입이 용이

* 장비 하우징 안을 부압하는 배기덕트호스아답터 장착(덕트는 유저가 직접 접속)