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이온스퍼터코터(Ion Sputter Coater) G20

** 이온 스퍼터 코터 (Ion Sputter Coater) **
                   

Ion Sputter Coater는 전도성이 없는 시료(Sample) 및 전도성이 약한 시료의 표면에 
플라즈마를 생성하여 금속박막을 형성시키는 장비로 
전자현미경 분석시 필수적으로 거쳐야 하는 전처리 장비.
Target Material 은 골드(Au)와 백금(Pt)을 주로 사용하며 시료 표면에 설정된 두께로 증착(도금)가능.

 




 

Model : G20 

   1. 7인치 터치 디스플레이로 손쉬운 조작

   2. 한번의 Touch 만으로 진공 → Auto Coating → 진공해제

   3. Library 기능으로 자주 사용하는 조건 저장 (최대 10개)

   4. Φ14㎜ 의 Sample Stub 총 7개 동시장착 가능

   5. 1 to 10mA의 저 전압 코팅으로 시료의 손상방지

   6. Compact 한 제품 Size 로 설치공간 최소화




Function
 

 - Current : 1mA 단위 설정 (1 to 10)
 - Times : 1초 단위 설정 (1 to 600)
 - Library : 최대 10개 까지 코팅조건 저장 (신규설정 시 Save)
 - Selective Plasma : 정해진 횟수에 따라서 시간을 분배하여 플라즈마 방출 (최대 50 time, 5초 단위 설정)


작동순서 

1. Start 버튼을 터치하면 Rotary pump 를 통해 자동으로 진공이 시작 됩니다. (진공시간 약 1분 소요)

2. 설정된 진공에 도달이 되면 입력된 코팅두께(sec) 로 Plasma 가 발생이 됩니다.

3. Library 기능으로 자주 사용하는 조건 저장 (최대 10개)

4. 코팅이 완료되면 약 5초 후에 Door 를 open 할 수 있으며 완성된 샘플을 제거할 수 있습니다. 







Specification




Model : G5



초소형 / 보급형 Coater 

전도성이 없는 또는 전도성이 약한 시료의 표면에 이온 플라즈마를 생성하여 금속 박막을 형성하는 장비 입니다. 주사전자현미경(SEM) 분석에 필수적인 전처리장비로 사용되고 있으며 또한 다양한 공정 및 산업환경에서 전극 증착 코팅 목적으로도 활용됩니다.

Feature | 특징

본 장비는 마그네틱 방식의 플라즈마 방전에 의해 금 타겟에서 이온이 방출되어 시료의 표면에 코팅(증착) 되는 장비입니다. 한번의 버튼(누름) 만으로 진공, Auto Plasma(coating), Vent(종료) 되는 Fully 자동화 장비 입니다. 코팅 모드는 20초(LOW), 40초(MEDIUM), 60초(HIGH) 3단계로 구성되어 있으며, 설정된 진공도가 도달이 되면 이온 플라즈마가 자동방출 시스템으로 설계되었습니다. 본 제품은 Compact 한 구조로 설계되어 설치공간을 최소화 하였으며, 5분 이내 설치가, 자유롭게 이동할 수 있습니다. 약 Φ50mm(D) 면적이 코팅되며, Z축 조절기능이 있어 최대 30mm 의 시료높이까지 탑재및 조정이 가능합니다.


  1. Mini-SEM/Normal-SEM 등 텅스텐(W) 전자현미경 보급형 코팅기

      1) 국내/외 최저가 금 코팅 증착 장비 

      2) 초소형 이온스퍼터코터 구조로 설치 및 작업환경 최소화 

      3) 35mm 타겟 적용 (백금타겟 기본적용)

  2.  20초(Low), 40초(Medium), 60초(High) 3가지 코팅모드 

  3. 한 번의 버튼 누름으로 모든 작업과정 자동화  

  4. 소형 진공펌프 적용으로 공간활용성 높이며, 간단한 구조로 이전설치 용이 

  5. 골드, 백금, 실버 타겟 선택적 사용가능 

  6. 링 타입 스퍼터링 구조로 손쉽게 타겟 교체 가능 (30초 이내)

  7. 별도의 작업도구가 필요없도록 설계되어 1분이면 설치 끝! 

  8. 본체와 진공펌프가 1BOX 로 구성

  9. 깨지지 않는 아크릴 챔버구조로 내구성 강화 

 10. 시료크기에 따른 W/D(Z) 조절가능 : 최대 30mm

 

 방전방식: Diode magnetic dischage type 
(다이오드 마그네틱 방전 타입)
 진공도​: 1.0x10-1 to 2.0x10-1 torr​
​ 진공도달시간 : 약 2분​
 ​전류값(Current): 50mA​
 ​Coating 타겟: Pt(백금) 타겟 기본제공 - Au 호환가능​
 ​Target size: Φ35mm(지름)​
 ​Chamber Size: Φ96mm(지름) x 91mm(높이)​
 ​Stage (W/D): Φ50mm(지름) / 30mm(높이)​
 ​진공펌프 : Rotary : 5CFM(142L/min)
 ​Coating 시간​: Low(20sec), Medium(40sec), High(60sec)
 ​제품크기​: 본체 : 266(W)x230(D)x254(H)mm, 8kg, 
펌프 : 338(W)x138(D)x244(H)mm, 10.4kg 
 ​전원: 본체 : 110~220VAC ±10%, 50~60Hz

        펌프 : 220VAC ±10%(전용) / 110V 전원사용 시 변압기(Trans) 필요







 주사 전자 현미경 (SEM) 


 
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*** Plasma Sputter Coater (Model : MNT-JS1600) ***

 



 


 



제품 설명

MNT-JS1600은 금, 백금, 인듐, 팔라듐, 티타늄, 구리, 알루미늄, 코발트 및은 등의 금속 코팅을 만들기 위해 설계된 소형 플라즈마 스퍼터링 코터입니다. 시스템은 75mm 샘플 옵션으로 최대 50mm 직경의 샘플에 적용 할 수 있습니다. 공정을 반복함으로써 더 두꺼운 코팅을 달성 할 수있다. SEM 시료 전처리를위한 전도성 금막 코팅 및 다양한 분야의 장치 프로토 타이핑에 널리 사용됩니다. 플라즈마 스퍼터링 코터는 턴키 솔루션으로, 금 스퍼터링 타겟이 설치된 스퍼터링 헤드 (골드 캐소드), 진공 펌프, 스틸 라이닝이있는 반투명 고무 벨로우즈, KF 25플랜지 및 증발트랩를 포함하여 즉시 사용하기 위해 필요한 모든 액세서리와 함께 배송됩니다.
제품 특징
- 큰 스퍼터링 영역을 갖춘 컴팩트 한 크기와 견고한 디자인.
- 계측기 상태를 표시하고 모니터링하기 위해 샘플 스퍼터링 챔버 진공 게이지 및
   스퍼터링 암페어 미터가 내장되어 있습니다.
금, 백금, 인듐 및 은 등과 같은 다양한 금속 코팅
-  표준 글러브 박스 내에서 사용 가능.
-  75mm 샘플로 맞춤 제작 가능.
Specifications



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 주사 전자 현미경 (SEM) 

 

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