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반도체·LCD 연구장비
고주파초음파세정기 W-357HPM
고주파초음파세정기 W-357HPM


고주파 초음파 세정기란
초음파 주파수가 0.7MHz~1.5MHz사이에서 사용되며 캐비테이션(공동현상)효과를 이용한 세정 시스템이 아니라
세정액의 분자 가속도에 의한 세정효과를 이용한 시스템입니다.

캐비테이션 효과로 세정은 침식발생에 따른 작업표면에 데미지를 줍니다.
실리콘 웨이퍼, 박막 등의 세정에 있어서는 이것이 큰 문제가 됩니다. 이러한 작업에서는 데미지가 적은 메가헤르츠의
세정이 요구되어 현재까지도 반도체의 세정에서는 폭넓게 이용되고 있습니다.

세정품질은 캐비테이션 효과에 의한 세정파티클 사이즈가 μm 수준인 반면에, 메가 헤르츠에 의한 세정은 0.2μm 이하를
대상으로 하고 있습니다.

최근, 파워 디바이스, MEMS, 이미지센서 등 새로운 시장에서 메가 헤르츠 세정기의 니즈가 많이 늘어나고 있습니다.
이에 따라 기존에 요구되었던 『 염가(초기 도입·실험기로서)·소형 탁상형·취급이 용이 』 제품을 제안합니다.


특징
소량의 세정물질이나 연구실 등에서 세정을 용이하게 했습니다.
1MHz
의 세정으로, 정밀품에 붙는 서브 미크론의 파티클 제거가 가능합니다
.
세정액의 순환을 가능하게 한 OverFlow 타잎입니다
.
운전시의 불쾌한 소음이 없습니다.


용도

자기 헤드 세정
하드 디스크 세정

실리콘 웨이퍼 세정
사파이어 웨이퍼 세정

반도체 디바이스 가공 후 세정

각종 연구실 및 랩실에서 세정 시험

 

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